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离子源

上海伯东射频离子源 RFICP 380

产品名称
离子源
价格
电议
在地区
上海 市辖区 
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1
供货能力
10/天
发布时间
2023/5/29 8:53:19
信息来源
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主营
离子蚀刻机
离子源
检漏仪
质谱仪

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上海伯东射频离子源 RFICP 380

上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, X大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用.

KRI射频离子源RFICP 380 特性:

  1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
  2. 离子源结构模块化设计
  3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
  4. 全自动控制器
  5. 离子束动能 100-1200eV
  6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用

上海伯东射频离子源 RFICP 380

射频离子源RFICP 380 技术规格:

阳极

电感耦合等离子体
2kW & 1.8 MHz
射频自动匹配

X大阳极功率

>1kW

X大离子束流

> 1000mA

电压范围

100-1500V

离子束动能

100-1200eV

气体

Ar, O2, N2,其他

流量

5-50sccm

压力

< 0.5mTorr

离子光学, 自对准

OptiBeamTM

离子束栅极

38cm Φ

栅极材质

钼或石墨

离子束流形状

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

38.1 cm

直径

58.2 cm

锁紧安装法兰

12”CF

上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等X域.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经40 年改良及发展已取得多项X. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD X域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论,请联络上海伯东邓女士,分机134

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