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【简单介绍】
CVD管式气氛炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等实验
【详细说明】
CVD高温管式气氛炉
1、用途：
CVD管式气氛炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等实验。
2、产品特点：
可根据用户需要设计生产（二温区、三温区、多温区），可预抽真空，通多种气氛。真空泵、阀采用进口设备，性能可靠。控制电路选用模糊PID程序控制技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。在预热方式上设有本公司自主研发的自动升温预热程序。在程序下完全不需要操作人员监看、调整工作电流，可将工作人员从繁琐的操作中解放出来。本系列CVD高温管式气氛炉制造技术已达国内X水平。
3、技术参数：
型号 | JK08-13-2A |
设计温度 | 1000-1300℃ |
控温精度 | ±1℃ |
极限真空度 | -0.01mpa（机械泵） |
温区 | 双温区 |
管径长度 | Ф100＊1200 |
输入功率 | 9KW |
电源电压 | AC380V |
加热原件 | 硅碳棒、镍铬丝 |
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